简介：KJ-T1200CVD是一种管式炉，配备60mm直径氧化铝管、真空泵和四通道质量流量计+一个浮子流量计气体流动系统

产品介绍：PECVD系统是借助射频使含有薄膜组成原子的气体电离，在局部形成等离子体，而等离子体化学活性很强，很容易发生反应，在基片上沉积出所期望的薄膜

产品介绍：卷对卷式PECVD是等离子增强型化学气相沉积设备（PECVD），并加装了收放卷装置

产品介绍：KJ-CVD是一种分体式管式炉，配备60mm直径的石英管、真空泵和四通道质量流量计气体流动系统

产品介绍：该产品是由射频电源、气体质子流量控制系统、衬底控温系统、真空系统组成，适用于室温至1200℃条件下进行SiO2、SiNx薄膜的沉积，同时可实现TEOS...

产品介绍：KJ-T1200CVD是一种管式炉，配备100mm直径石英管、真空泵和五通道质量流量计气体流动系统

产品描述：KJ-T1200PECVD是一种PECVD（等离子体增强化学气相沉积）的管式炉系统，它由500W射频电源、带有200毫米直径石英管的可拆分管式炉、真空...

产品介绍：等离子体增强化学气相沉积（PECVD）技术是借助于辉光放电（等离子体）使含有薄膜组成的气态物质发生化学反应，从而实现薄膜技术生长的一种系的制备技术

产品介绍：该双炉体CVD系统为定制款，适用于CVD工艺，如碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、ZnO纳米结构的可控生长、陶瓷电容（MLCC）气氛烧结等实验

产品特点：1、控制电路选用模糊PID程控技术，该技术控温精度高，热惯性小，温度不过冲，性能可靠，操作简单

简单介绍：KJ-T1600CVD是一种管式炉，具有80mm直径的氧化铝管和三通道质量流量计气体流动系统

产品介绍：KJ-T1200-S60LC-H2石墨烯制备机是由KJ-T1200开启式滑轨管式炉、真空系统、质量流量计气路系统、等离子电源系统组成

产品介绍：KJ-1200T-S60LK3-3FZ型CVD管式炉由KJ-T1200管式炉+真空系统+供气系统组成，温度可以达到1200度,可以是单温区、双温区、三...

产品介绍：KJ-T1200-S6012LK1-3FH5S型高温真空CVD设备由KJ-T1200滑动式快速退火管式炉+真空系统+供气系统组成

KJ-T1200-S6015LK1-4Z5S多路混气管式PECVD系统，由KJ-T1200单温区管式炉、真空系统、质子流量计、射频电源系统系统组成

产品介绍：KJ-T1200-S6012LK1-4Z5S型石墨烯生长炉由KJ-1200T管式炉+真空系统+供气系统+水冷系统组成，温度可以达到1200度,可以是单...

产品介绍：KJ-T1200-S60K-4C型四路高温真空CVD设备由KJ-T1200滑动式快速退火管式炉+真空系统+供气系统组成，温度可以达到1200度，极限真...

产品介绍：液压钟罩气氛炉采用炉体和智能控制一体化设计，整个炉体美观、大方

产品用途：PECVD系统是借助射频使含有薄膜组成原子的气体电离，在局部形成等离子体，而等离子体化学活性很强，很容易发生反应，在基片上沉积出所期望的薄膜

产品介绍：KJ-T1200大口径CVD管式炉是一种具有60mm直径石英管，真空泵和三通道质量流量计气体流动系统的可拆分管式炉